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共 1 篇文章

標(biāo)簽：光刻

投資數(shù)十億美元，英特爾要用EUV造7nm芯片-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺

投資數(shù)十億美元，英特爾要用EUV造7nm芯片

英特爾正準(zhǔn)備在D1X 工廠加大對7nm EUV光刻工藝的研發(fā)，這座工廠位于美國俄勒岡州，晶圓廠擴建通常需要數(shù)十億美元，而EUV光刻的大規(guī)模采用預(yù)計會增加額外成本。英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻（EUV）的新制造工藝，這將使微芯片...

張妮娜2019-01-24業(yè)界動態(tài)

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