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標(biāo)簽:光刻

投資數(shù)十億美元,英特爾要用EUV造7nm芯片-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺

投資數(shù)十億美元,英特爾要用EUV造7nm芯片

英特爾正準(zhǔn)備在D1X 工廠加大對7nm EUV光刻工藝的研發(fā),這座工廠位于美國俄勒岡州,晶圓廠擴建通常需要數(shù)十億美元,而EUV光刻的大規(guī)模采用預(yù)計會增加額外成本。 英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻(EUV)的新制造工藝,這將使微芯片...

張 妮娜張 妮娜業(yè)界動態(tài)