
前ASML首席科學(xué)家林楠推動(dòng)中國(guó)EUV最新突破
2025年4月29日,據(jù)南華早報(bào)報(bào)道稱,國(guó)內(nèi)研究團(tuán)隊(duì)成功構(gòu)建一個(gè)以國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)參數(shù)運(yùn)行的極紫外 (EUV) 光源平臺(tái),突破了國(guó)產(chǎn)先進(jìn)芯片的障礙。該團(tuán)隊(duì)來(lái)自中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,由曾任荷蘭ASML公司光源技術(shù)負(fù)責(zé)人的林楠領(lǐng)導(dǎo),這項(xiàng)成果...