中國科學院上海光學精密機械研究所超強激光科學與技術(shù)全國重點實驗室副主任林楠，圖片來自中國科學院大學
林楠團隊并未沿用ASML使用二十年的二氧化碳激光技術(shù)體系，而是尋求固態(tài)激光器方案，實現(xiàn)了3.42%的轉(zhuǎn)換效率，已超越蘇黎世聯(lián)邦理工學院等西方頂尖機構(gòu)。林楠團隊認為，該平臺的理論最高效率可以達到6%，超過了一些商業(yè)基準。
2021年，林楠的歸國被視為中國半導體人才戰(zhàn)略的關(guān)鍵落子。這位師從諾貝爾物理學獎得主Anne L’Huillier的頂尖專家，其技術(shù)路線選擇暗含深層考量——研發(fā)方向直指下一代高能效EUV系統(tǒng)，在可持續(xù)性和擴展性方面建立技術(shù)儲備。
目前，國內(nèi)面臨的最大挑戰(zhàn)依然是構(gòu)建完整的EUV光刻生態(tài)系統(tǒng)，也就是說中國要掌握從鏡面光學元件到光刻膠和平臺對準系統(tǒng)的所有技術(shù)——而這些領(lǐng)域目前仍由ASML及其全球供應(yīng)商主導。雖然光源只是第一步，但這場半導體領(lǐng)域的”光源革命”，或許正在照亮中國芯的突圍之路。
