中國科學院上海光學精密機械研究所超強激光科學與技術全國重點實驗室副主任林楠，圖片來自中國科學院大學
林楠團隊并未沿用ASML使用二十年的二氧化碳激光技術體系，而是尋求固態(tài)激光器方案，實現(xiàn)了3.42%的轉換效率，已超越蘇黎世聯(lián)邦理工學院等西方頂尖機構。林楠團隊認為，該平臺的理論最高效率可以達到6%，超過了一些商業(yè)基準。
2021年，林楠的歸國被視為中國半導體人才戰(zhàn)略的關鍵落子。這位師從諾貝爾物理學獎得主Anne L’Huillier的頂尖專家，其技術路線選擇暗含深層考量——研發(fā)方向直指下一代高能效EUV系統(tǒng)，在可持續(xù)性和擴展性方面建立技術儲備。
目前，國內面臨的最大挑戰(zhàn)依然是構建完整的EUV光刻生態(tài)系統(tǒng)，也就是說中國要掌握從鏡面光學元件到光刻膠和平臺對準系統(tǒng)的所有技術——而這些領域目前仍由ASML及其全球供應商主導。雖然光源只是第一步，但這場半導體領域的”光源革命”，或許正在照亮中國芯的突圍之路。
